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        1. 真空納米鍍膜工藝過程

          時間:2019-03-28| 作者:Admin

          真空納米鍍膜沉積過程分為三步: 

          1.首先在真空條件下, 以120℃將固態粉末狀的對二甲苯的二聚物 (di-para-xylylene; dimer) 加熱汽化;

          2.然后以650℃ 將氣態的對二甲苯的二聚物 ,裂解為對二甲苯 (para-xylylene) 的 活性單體(monomer);

          3.最后氣態活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯 (Poly-para-xylylene )的薄膜。

                當氣態單體進入沉積腔室,首先會彌漫在工件表面,當吸附到各個表面后開始聚合和結晶,直接形成固體,避免了液相的出現,清除了厚度的不均勻和涂層的缺陷。(應用領域:LED行業、電子行業、醫療器械、印刷電路板、微電子、磁性行業、半導體、橡塑產品、文物保護、特殊領域)工能:絕緣強和耐高溫,抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、透明、防水、抗老化。

          真空納米鍍膜工藝流程圖.jpg

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